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一种减小WPE效应的标准单元库版图设计方法

摘要

本发明提供了一种减小WPE效应的标准单元库版图设计方案,应用于半导体制造领域,包括以下步骤,确定标准单元版图的基本设计参数;根据所述标准单元原理图和所述基本设计参数,形成标准单元的基本版图;根据所述标准单元的基本版图,计算出单个所述标准单元的PMOS AA有源区至N阱的最大距离(SC_sum);根据所述最大距离(SC_sum),计算出PMOS的源/漏端至N阱的最佳距离值;根据所述最佳距离值,对所述基本版图进行调整。有益效果:本发明在实现了单个标准单元版图和面积固定的同时,减小了标准单元所受WPE效应的影响,增高阈值电压,电路速度提升5%以上。

著录项

  • 公开/公告号CN107798197A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-03-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华力微电子有限公司;

    申请/专利号CN201711050885.6

  • 发明设计人 阳媛;高唯欢;胡晓明;

    申请日2017-10-31

  • 分类号

  • 代理机构上海申新律师事务所;

  • 代理人俞涤炯

  • 地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号

  • 入库时间 2023-06-19 04:45:36

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-04-06

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06F17/50 申请日:20171031

    实质审查的生效

  • 2018-03-13

    公开

    公开

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