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自对准工艺制备的半导体功率器件以及更加可靠的电接触

摘要

本发明提出了一种含有多个沉积在半导体衬底的顶面附近的顶部接线端的半导体功率器件。每个顶部接线端都由一个端子接触层构成,作为半导体衬底的顶面附近的硅化物接触层。半导体功率器件的沟槽栅极从半导体衬底的顶面打开,每个沟槽栅极都由硅化层构成,作为一个凹陷的硅化物接触层,沉积在每个沟槽栅极上方,沟槽栅极周围的半导体衬底的顶面稍下。

著录项

  • 公开/公告号CN108400161B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-05-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 万国半导体国际有限合伙公司;

    申请/专利号CN201810174457.2

  • 申请日2011-05-25

  • 分类号H01L29/423(20060101);H01L29/45(20060101);H01L21/336(20060101);H01L29/78(20060101);

  • 代理机构31272 上海申新律师事务所;

  • 代理人董科

  • 地址 加拿大安大略省

  • 入库时间 2022-08-23 11:45:44

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