腔室压力稳定控制系统及方法、半导体加工设备

摘要

本发明涉及一种腔室压力稳定控制系统，用于稳定控制腔室内的压力，包括控制器、用于与所述腔室连通的进气管路和出气管路；所述进气管路包括流量控制单元；所述流量控制单元用于在所述控制器的控制下控制向所述腔室通入相应气流量的气体；所述控制器，用于接收腔室门阀的当前状态，并根据预先设置的腔室门阀的多种状态以及在每种状态下对应设置的流量控制单元向腔室内通入气流量的情况，来确定在腔室门阀的当前状态下对应的流量控制单元向腔室内通入气流量的情况并相应控制所述流量控制单元，以实现所述腔室的压力稳定控制。本发明还提供一种半导体加工设备。本发明不仅稳定效果好而且简单易行。