公开/公告号CN106010325B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-05-04
原文格式PDF
申请/专利权人 藤森工业株式会社;
申请/专利号CN201610090004.2
申请日2016-02-17
分类号C09J7/30(20180101);C09J183/04(20060101);C09J11/08(20060101);C09J9/02(20060101);G02B1/14(20150101);
代理机构11002 北京路浩知识产权代理有限公司;
代理人谢顺星;张晶
地址 日本东京都
入库时间 2022-08-23 11:44:51
机译: 表面保护膜基材料,使用表面保护膜基材料的表面保护膜以及具有表面保护膜的光学膜
机译: 表面保护膜及具有该表面保护膜的光学部件
机译: 表面保护膜及与该表面保护膜接合的光学部件的制造方法