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一种高响应度低暗电流PIN结构的4H-SiC紫外探测器及其制备方法

摘要

本发明公开了一种高响应度低暗电流PIN结构的4H‑SiC紫外探测器及其制备方法,一种高响应度低暗电流PIN结构的4H‑SiC紫外探测器,在上电极和上电极4H‑SiC欧姆接触层之间设有氧等离子体处理的4H‑SiC欧姆接触层。上电极为Ti单层金属或含Ti多层金属复合结构。本发明高响应度低暗电流PIN结构的4H‑SiC紫外探测器克服了传统PIN结构4H‑SiC紫外探测器响应度低的缺点,在不增加器件的外延技术难度、器件制备复杂程度及成本的前提下,有效提升器件的灵敏度,并保持极低的暗电流水平。

著录项

  • 公开/公告号CN109326659B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-04-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 南京大学;

    申请/专利号CN201811121284.4

  • 发明设计人 周东;陆海;苏琳琳;徐尉宗;

    申请日2018-09-26

  • 分类号H01L31/0224(20060101);H01L31/105(20060101);H01L31/20(20060101);

  • 代理机构32341 南京中律知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人李建芳

  • 地址 210023 江苏省南京市栖霞区仙林大道163号

  • 入库时间 2022-08-23 11:40:52

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