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栅极抽取和注入场效应晶体管及其沟道载流子控制方法

摘要

栅极抽取和注入场效应晶体管及其沟道载流子控制方法,涉及微电子技术和半导体技术。本发明的栅极抽取和注入场效应晶体管在绝缘层上设置有源极、漏极、栅极和沟道半导体区,栅极与沟道半导体区之间设置有栅介质层,其特征在于,所述栅介质层为电阻值为103~1016Ω的薄膜材料;所述沟道半导体区的材质为二维半导体,或者具有二维半导体材料特点的三维半导体。本发明的有益效果是,器件和集成电路的功耗成数量级显著降低。

著录项

  • 公开/公告号CN109166928B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-04-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 电子科技大学;

    申请/专利号CN201810771577.0

  • 申请日2018-07-13

  • 分类号H01L29/786(20060101);H01L29/51(20060101);H01L29/24(20060101);H01L29/16(20060101);H01L21/336(20060101);H01L21/34(20060101);

  • 代理机构51215 成都惠迪专利事务所(普通合伙);

  • 代理人刘勋

  • 地址 610000 四川省成都市高新区西源大道2006号

  • 入库时间 2022-08-23 11:40:06

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