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公开/公告号CN110429053B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-03-23
原文格式PDF
申请/专利权人 江阴江化微电子材料股份有限公司;
申请/专利号CN201910764932.6
发明设计人 顾玲燕;朱龙;任奕宇;李翔;承明忠;
申请日2019-08-19
分类号H01L21/67(20060101);H01L21/677(20060101);
代理机构32348 无锡坚恒专利代理事务所(普通合伙);
代理人杜兴
地址 214400 江苏省无锡市江阴市周庄镇长寿云顾路581号
入库时间 2022-08-23 11:36:21
机译: 具有SiN层和Si层的基板的湿蚀刻组合物以及使用该湿蚀刻组合物的湿蚀刻方法
机译: 用于半导体器件制造的湿蚀刻设备以及湿蚀刻设备中的蚀刻溶液循环方法
机译:牙本质原纤维矿物的选择性脱矿质-一种潜在的方法来消除蚀刻和冲洗技术中的水湿键合
机译:牙本质新纤维蛋白矿物的选择性脱矿质 - 一种消除蚀刻和冲洗技术中水湿粘合的潜在方法
机译:一种湿蚀刻技术,可用于Revea!锗薄层中的螺纹位错
机译:SI {100}和{110}的快速湿湿蚀刻,在超高温KOH溶液中具有光滑的表面
机译:用于激光制造的光辅助湿(PAW)蚀刻。
机译:一种简单的纸基传感器通过使用纸面罩选择性湿蚀刻硅烷化滤纸而制成
机译:双异质结构激光器,具有由杂交湿和反应离子蚀刻技术形成的刻面
机译:用热湿蚀刻结合显微镜和衍射技术研究GaN的缺陷和表面极性