公开/公告号CN108713262B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-02-26
原文格式PDF
申请/专利权人 铣益系统有限责任公司;
申请/专利号CN201580085778.X
申请日2015-12-21
分类号H01L51/56(20060101);H01L21/22(20060101);H01L51/00(20060101);H01L21/67(20060101);H01L21/324(20060101);
代理机构11332 北京品源专利代理有限公司;
代理人吕琳;宋东颖
地址 韩国京畿道水原市
入库时间 2022-08-23 11:33:22
机译: 金属薄膜沉积的坩埚和金属薄膜沉积的蒸发源
机译: 用于金属薄膜沉积的坩埚和具有该坩埚的蒸发源
机译: 用于金属薄膜沉积的坩埚和具有该坩埚的蒸发源