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用于金属薄膜沉积的坩埚及用于金属薄膜沉积的蒸发源

摘要

根据本发明的一个方面,提供一种用于金属薄膜沉积的坩埚,上述用于金属薄膜沉积的坩埚使金属蒸发材料容纳且根据加热熔融和升华以在基板上形成金属薄膜,其特征在于,包括:主体部,具有上端开放的容器形状;及台阶部,从上述主体部的内壁向内侧延伸形成,以便在上述主体部内部的中心沿深度方向形成第一熔融孔,其中,以第一熔融孔为中心沿着上述台阶部同心地形成多个第二熔融孔。

著录项

  • 公开/公告号CN108713262B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-02-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 铣益系统有限责任公司;

    申请/专利号CN201580085778.X

  • 发明设计人 朴显植;崔在秀;吴泳晩;

    申请日2015-12-21

  • 分类号H01L51/56(20060101);H01L21/22(20060101);H01L51/00(20060101);H01L21/67(20060101);H01L21/324(20060101);

  • 代理机构11332 北京品源专利代理有限公司;

  • 代理人吕琳;宋东颖

  • 地址 韩国京畿道水原市

  • 入库时间 2022-08-23 11:33:22

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