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机译:通过施加大气压燃烧化学气相沉积工艺,钴和锰羧酸盐用于金属氧化物薄膜沉积
Innovent eV Prussingstr 27B D-07745 Jena Germany;
Tech Univ Chemnitz Fac Nat Sci Inst Chem Inorgan Chem D-09107 Chemnitz Germany;
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Tech Univ Chemnitz Fac Mech Engn Inst Mat Sci &
Engn Mat &
Surface Engn D-09107 Chemnitz Germany;
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机译:通过施加大气压燃烧化学气相沉积工艺,钴和锰羧酸盐用于金属氧化物薄膜沉积
机译:应用大气压燃烧化学气相沉积工艺沉积金属氧化物薄膜的钴和锰羧酸盐
机译:应用大气压燃烧化学气相沉积工艺沉积金属氧化物薄膜的钴和锰羧酸盐
机译:燃烧化学气相沉积(C-CVD)在玻璃上沉积薄膜过渡金属氧化物(TMO)
机译:大气压化学气相沉积法将非晶碳化硅薄膜沉积在熔融石英上。
机译:常压等离子体化学气相沉积法生长掺锌铜的抗菌氧化硅薄膜
机译:通过施加大气压燃烧化学气相沉积工艺,钴和锰羧酸盐用于金属氧化物薄膜沉积