公开/公告号CN111244180B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-01-22
原文格式PDF
申请/专利权人 电子科技大学;无锡华润华晶微电子有限公司;
申请/专利号CN202010047835.8
申请日2020-01-16
分类号H01L29/78(20060101);H01L29/06(20060101);H01L21/336(20060101);
代理机构51232 成都点睛专利代理事务所(普通合伙);
代理人霍淑利
地址 611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
入库时间 2022-08-23 11:29:52
机译: 具有改善操作性能的多发射极型双极结型晶体管,一种双极CMOS DMOS器件,一种制造多发射极型双极结型晶体管的方法以及一种制造双极CMOS DMOS的方法
机译: 浅沟槽半超结VDMOS器件及其制造方法
机译: 浅沟槽半超结VDMOS器件及其制造方法