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一种多焦点衍射元件的制备方法及多焦点衍射元件

摘要

本申请涉及一种多焦点衍射元件的制备方法及多焦点衍射元件,包括:获取多焦点衍射元件的基本参数;根据所述基本参数计算各个焦段对应的台阶刻蚀深度;根据所述台阶刻蚀深度进行仿真实验论证以得到所述多焦点衍射元件。本申请提供的多焦点衍射元件减小了多焦点衍射元件的尺寸,避免了多个光学元件之间的对准问题,使其使用场景更加灵活广泛。上述多焦点衍射元件能够产生等距的多焦点,各焦点间的峰值能量均匀性、点扩散函数一致性都能通过优化得到很好的结果,可以作为高精度微纳加工系统中的重要分光元件,并且在某些特定成像光学系统中对于增大焦深有着十分重要的作用。

著录项

  • 公开/公告号CN109581558B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-01-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201811597506.X

  • 发明设计人 王孝坤;张海东;张学军;薛栋林;

    申请日2018-12-26

  • 分类号G02B5/18(20060101);G02B27/00(20060101);

  • 代理机构44316 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人吴乃壮

  • 地址 130033 吉林省长春市经济技术开发区东南湖大路3888号

  • 入库时间 2022-08-23 11:29:12

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