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一种锗基底宽光谱红外增透光学窗口

摘要

本发明公开了一种锗基底宽光谱红外增透光学窗口,该光谱红外增透光学窗口增透膜使用了锗(Ge)、硫化锌(ZnS)和氟化镱(YbF3)为不同折射率的膜层材料,锗基底上的一种长波红外增透膜,其结构为:在基底(2)的一面沉积正面膜系(1),在基底的另一面沉积结构相同的反面膜系(3)。使用离子源辅助沉积与合适的基底烘烤温度等特定工艺条件,在基底的两个表面分别沉积8层非规整的膜层。该增透膜元件可以使得在7.5~14.0μm区间具有良好的透光效果,平均透过率>96%。Ge晶体是一种优质的高折射率红外材料,广泛应用于各种红外滤光片,该增透膜可以有效提高非制冷红外焦平面探测器的光学效率,在宽光谱应用方面呈现出明显优势。

著录项

  • 公开/公告号CN108627889B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-01-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海欧菲尔光电技术有限公司;

    申请/专利号CN201810322890.6

  • 发明设计人 赵中亮;

    申请日2018-04-11

  • 分类号G02B1/115(20150101);

  • 代理机构11616 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司;

  • 代理人梁永昌

  • 地址 200080 上海市虹口区汶水东路888号

  • 入库时间 2022-08-23 11:29:04

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