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一种铝酸根插层的水滑石、其制备方法及用途

摘要

本发明公开了一种铝酸根插层的水滑石,其分子式如下[Ma(II)1‑xMb(III)x(OH)2]x+(An‑)x·mH2O,其中Mb(III)=Al3+;Ma(II)代表主体层板上的正二价金属阳离子,An‑是包括Al(OH)4在内的插层阴离子,x值为0.20~0.33(即Ma(II):Mb(III)为2~4:1)。本发明的铝酸根插层的水滑石在高温煅烧后,层间的铝酸根离子能够参与复合氧化物结构构筑,实现宏观形貌的保持。本发明还公开了所述铝酸根插层的水滑石的制备方法,以及其用作催化材料及3D打印材料的用途。

著录项

  • 公开/公告号CN108675326B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-01-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京化工大学;

    申请/专利号CN201810570060.5

  • 发明设计人 孙晓明;袁子健;

    申请日2018-06-05

  • 分类号C01F7/00(20060101);C01G9/00(20060101);B33Y10/00(20150101);B33Y70/00(20200101);B01J21/10(20060101);B01J23/06(20060101);

  • 代理机构11590 北京市领专知识产权代理有限公司;

  • 代理人杨兵

  • 地址 100029 北京市朝阳区北三环东路15号

  • 入库时间 2022-08-23 11:28:43

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