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一种喷印墨滴多误差补偿定位控制方法及系统

摘要

本发明属于喷墨打印相关技术领域,其公开了一种喷印墨滴多误差补偿定位控制方法及系统,所述方法包括以下步骤:(1)进行试打印以分别获取墨滴飞行定位误差、喷头定位误差及基板定位误差;(2)正式打印前,依据得到的墨滴飞行定位误差、喷头定位误差及基板定位误差对基板运动进行前馈控制;之后进入正式打印;(3)实时检测获得正式打印中的墨滴落点定位误差,并依据得到的墨滴落点定位误差对基板运动进行在线反馈控制。本发明通过对喷印过程汇总多误差的测量与补偿,减小墨滴定位误差,因而尤其适用于高分辨率显示器、柔性电子之类的高精度工业生产和应用场合。

著录项

  • 公开/公告号CN111332020B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-01-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华中科技大学;

    申请/专利号CN202010208317.X

  • 发明设计人 陈建魁;吕佳超;王一新;欧闻;

    申请日2020-03-23

  • 分类号B41J2/075(20060101);B41J2/12(20060101);

  • 代理机构42201 华中科技大学专利中心;

  • 代理人孔娜;李智

  • 地址 430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

  • 入库时间 2022-08-23 11:28:08

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