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公开/公告号CN111332020B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-01-05
原文格式PDF
申请/专利权人 华中科技大学;
申请/专利号CN202010208317.X
发明设计人 陈建魁;吕佳超;王一新;欧闻;
申请日2020-03-23
分类号B41J2/075(20060101);B41J2/12(20060101);
代理机构42201 华中科技大学专利中心;
代理人孔娜;李智
地址 430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
入库时间 2022-08-23 11:28:08
机译: 墨滴质量偏差测量装置,墨滴质量偏差测量方法,使用该墨滴质量偏差测量装置的图案形成系统以及使用该墨滴质量偏差测量装置的图案形成系统的控制方法
机译: 墨滴质量偏差测量装置,其墨滴质量偏差测量方法,使用该墨滴质量偏差测量装置的图案形成系统以及使用该墨滴质量偏差测量装置的图案形成系统的控制方法
机译: 一种在喷墨打印机中沿压力方向的墨滴定位误差的校正系统。
机译:抑制钻柱中的粘滑:一种基于建模误差补偿的控制方法
机译:压电致动定位系统的离散时间拟滑模控制:一种规定的性能控制方法
机译:定位系统的系统误差补偿的新方法
机译:通过使用紫外线激光加工系统的误差补偿方法,增强了双轴进给系统的高定位精度
机译:使用基于模型的控制方法的新型定位系统的系统集成。
机译:基于平面控制的移动测量系统的定位误差补偿方法
机译:一种超精密定位系统的误差补偿及其结构模型的参数化
机译:具有交换拓扑的网络系统的复杂性,鲁棒性和多稳态性:一种分层混合控制方法。