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高均匀性、短流程电子束物理气相沉积热障涂层用陶瓷靶材制备方法

摘要

本发明提供一种高均匀性、短流程电子束物理气相沉积热障涂层用陶瓷靶材制备方法,包括如下步骤:粉末原料团聚造粒、团聚造粒粉末热处理、粉末配比混合、冷等静压、排胶处理。本发明制备的陶瓷靶材具有工艺流程短、易加工等优点,所制备的靶材具有优异的抗热震性能,从而保障电子束物理气相沉积过程工艺稳定性。也可根据工艺需求,在生坯排胶后进行烧结处理获得高密度、高强度陶瓷靶材。

著录项

  • 公开/公告号CN108358648B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-12-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201810161330.7

  • 发明设计人 何箐;邹晗;王世兴;

    申请日2018-02-27

  • 分类号C04B35/622(20060101);C04B35/626(20060101);C04B35/48(20060101);C04B35/50(20060101);

  • 代理机构11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司;

  • 代理人梁挥;王馨仪

  • 地址 100083 北京市朝阳区德胜门外北沙滩1号

  • 入库时间 2022-08-23 11:25:09

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