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光掩模、包括光掩模的层压体、光掩模制备方法、图案形成装置和图案形成方法

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摘要

本说明书涉及一种光掩模、包括该光掩模的层压体、光掩模的制备方法、使用所述光掩模的图案形成装置和使用所述光掩模的图案形成方法。

1. 光掩模、包括光掩模的层压体、光掩模制备方法、图案形成装置和图案形成方法 [P] . 中国专利： CN107710072B . 2020.12.15
2. 光掩模、包括光掩模的层压体、光掩模制备方法、图案形成装置和图案形成方法 [P] . 中国专利： CN107710072A . 2018-02-16
3. Photomask, laminate comprising photomask, photomask preparation method, pattern forming apparatus using photomask and pattern forming method using photomask [P] . 美国专利： US10732500B2 . 2020-08-04

机译：光掩模，包括光掩模的层压体，光掩模的制备方法，使用光掩模的图案形成装置以及使用光掩模的图案形成方法
4. Photomask, laminate including the photomask, method for manufacturing the photomask, pattern forming apparatus using the photomask, and pattern forming method using the photomask [P] . 日本专利： JP6458971B2 . 2019-01-30

机译：光掩模，包括该光掩模的层压体，该光掩模的制造方法，使用该光掩模的图案形成装置以及使用该光掩模的图案形成方法
5. Photomask, laminate including the photomask, method for manufacturing the photomask, pattern forming apparatus using the photomask, and pattern forming method using the photomask [P] . 日本专利： JP2018525652A . 2018-09-06

机译：光掩模，包括该光掩模的层压体，该光掩模的制造方法，使用该光掩模的图案形成装置以及使用该光掩模的图案形成方法