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公开/公告号CN106876466B
专利类型发明专利
公开/公告日2020-11-13
原文格式PDF
申请/专利权人 大连理工大学;
申请/专利号CN201710072915.7
发明设计人 梁红伟;夏晓川;
申请日2017-02-16
分类号H01L29/78(20060101);H01L29/06(20060101);H01L21/336(20060101);
代理机构21200 大连理工大学专利中心;
代理人温福雪;侯明远
地址 116024 辽宁省大连市甘井子区凌工路2号
入库时间 2022-08-23 11:21:11
机译: 具有缩短通道的碳化硅功率金属氧化物半导体场效应晶体管及制造方法具有缩短通道的碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管的制备方法
机译: 具有栅绝缘层的不同厚度的金属氧化物半导体场效应晶体管器件的形成方法,该不同厚度的层可以改善低电压金属氧化物半导体场效应晶体管器件和高电压金属氧化物半导体器件的性能
机译: 互补金属氧化物半导体场效应晶体管,金属氧化物半导体场效应晶体管及其制造方法
机译:25℃至300℃氧化镓金属氧化物半导体场效应晶体管随温度变化的直流特性研究
机译:金属氧化物半导体场效应晶体管中GaAs和lno.53Gao.47As上的氧化lin镓/氧化镓绝缘体的电特性-导纳和亚阈值特性
机译:制备方法对氮氧化物扩散到金属氧化物半导体场效应晶体管中的缺陷的影响
机译:准垂直GaN基沟槽栅金属氧化物半导体场效应晶体管
机译:氧化镓金属氧化物半导体场效应晶体管的分析建模和功率晶体管设计行业
机译:厚度调制半导体到砷中金属跃迁的无掺杂砷异质结构金属氧化物半导体场效应晶体管
机译:厚栅极氧化物的100nm以下金属氧化物半导体场效应晶体管的制备方法
机译:最近的功率金属氧化物半导体场效应晶体管(mOsFET)测试结果。