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X射线吸收光栅制作方法及其X射线吸收光栅

摘要

本发明公开了一种X射线吸收光栅制作方法及其X射线吸收光栅,制作方法包括步骤:在基底上制作光栅槽或光栅孔,形成光栅槽阵列或光栅孔阵列;有机溶剂、水、表面活性剂清洗基底;金属纳米颗粒加入挥发性溶剂和表面活性剂,制得悬浊液;真空下,将金属纳米颗粒悬浊液填充至光栅微结构中,且金属纳米颗粒沉降填满光栅槽或光栅孔;检测,如填充不均匀或者光栅微结构内没有布满金属纳米颗粒,继续填充;清洗基底表面的金属纳米颗粒。吸收光栅包括基底,基底上设有光栅槽阵列或光栅孔阵列,光栅槽或光栅孔填满金属纳米颗粒。本发明的吸收光栅与熔融金属材料制成的光栅性能相差无几,且制作方法简单、门槛低、成本低廉,便于在普通实验室操作及实现。

著录项

  • 公开/公告号CN109801733B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 深圳大学;

    申请/专利号CN201811642783.8

  • 发明设计人 李冀;雷耀虎;黄建衡;刘鑫;

    申请日2018-12-29

  • 分类号G21K1/02(20060101);

  • 代理机构44314 深圳市瑞方达知识产权事务所(普通合伙);

  • 代理人张秋红;郭方伟

  • 地址 518060 广东省深圳市南山区南海大道3688号

  • 入库时间 2022-08-23 11:18:51

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