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一种超精密元件亚表面微纳缺陷测量系统及测量方法

摘要

本发明的超精密元件亚表面微纳缺陷测量系统,包括XY轴位移调节平台、Z轴位移调节平台、角度调节平台、扫描探针、激励源、锁相放大器及上位机;角度调节平台设于Z轴位移调节平台上,XY轴位移调节平台的上方和角度调节平台的下方分别固定压电晶片一和压电晶片二,样品固定于压电晶片一上,扫描探针固定于压电晶片二上;激励源的两个输出端分别与压电晶片一和压电晶片二连接,扫描探针与样品携带的弹性波和倏逝波相互作用后的信号连接于锁相放大器的输入端、扫描探针的振动频率与样品的振动频率相互作用后的参考频率连接于锁相放大器的参考端,锁相放大器的输出端连接至上位机。实现了对超精密元件亚表面维纳尺寸缺陷三维形态特征的高精度测量。

著录项

  • 公开/公告号CN110133108B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-09-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 浙江大学;

    申请/专利号CN201910393584.6

  • 发明设计人 陈远流;谭鹏;赵冉;居冰峰;

    申请日2019-05-13

  • 分类号G01N29/06(20060101);G01N29/24(20060101);G01N29/265(20060101);G01N29/46(20060101);G01N29/50(20060101);G01N29/44(20060101);

  • 代理机构33231 杭州宇信知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人刘艳艳

  • 地址 310058 浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号

  • 入库时间 2022-08-23 11:14:41

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