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一种同时生产电子级二氯二氢硅、电子级三氯氢硅及电子级四氯化硅的方法

摘要

本发明涉及一种同时生产电子级二氯二氢硅、电子级三氯氢硅及电子级四氯化硅的方法,以粗品三氯氢硅为原料,包括一次除尘、气相吸附、一次脱轻组分、一次脱重组分、歧化、添加络合剂、二次除尘、一次分离、二次分离处理、二次脱轻组分处理、二次脱重组分处理、三次分离处理、三次脱轻组分、三次脱重组分、四次脱轻组分、四次脱重组分等步骤。本发明工艺路线,是在现有的制造电子级二氯二氢硅的工艺路线上,通过步骤的变化及调整,对原材料三氯氢硅纯度要求降低,可同时得到的电子级二氯二氢硅、电子级三氯氢硅和电子级四氯化硅,金属杂质、氯硅烷杂质以及硼等杂质含量少,质量稳定且能满足大型集成电路对产品的要求。

著录项

  • 公开/公告号CN109987608B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-09-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 唐山三孚电子材料有限公司;

    申请/专利号CN201910323974.6

  • 发明设计人 董立强;戴帅;杨志军;

    申请日2019-04-22

  • 分类号C01B33/107(20060101);

  • 代理机构11212 北京轻创知识产权代理有限公司;

  • 代理人陈熙

  • 地址 063305 河北省唐山市南堡开发区

  • 入库时间 2022-08-23 11:14:16

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