一种基于空化和介电泳的多相流抛光方法及抛光系统

摘要

本发明公开一种基于空化和介电泳的多相流抛光方法及抛光系统，该方法为将待抛光平面工件放置在一个静止的过流腔体内，使磨粒流发生空化后进入过流腔体，并在过流腔体内施加非均匀电场将磨粒极化，导致其受力不均匀而向工件表面发生移动聚集，经空化作用的磨粒流在非均匀电场作用下对待抛光工件的平面进行抛光，达到均匀抛光的效果。本发明的抛光方法抛光的工件表面均匀、表面粗糙度低、表面质量高、加工效率高。