法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-08-14
授权
授权
2018-07-20
实质审查的生效 IPC(主分类):C04B35/584 申请日:20161216
实质审查的生效
2018-06-26
公开
公开
机译: 一种具有高介电常数栅氧化膜形成方法,边界层还原法,高介电常数栅绝缘膜,高介电常数栅绝缘膜和高k栅氧化膜的晶体管,
机译: 低介电常数绝缘膜的形成材料,低介电常数绝缘膜,低介电常数绝缘膜的制备方法及半导体装置
机译: 集成电路中低介电常数薄膜层的制备方法