通过旋转、平移及可变处理条件的曝光剂量均匀化

摘要

基板可以设置在整片曝光处理系统中的基板支承件上。可以选择整片曝光剂量分布。基板可以曝光于来自源的整片辐照，并且当实现所选的曝光剂量分布时，可以终止整片辐照。将基板曝光于整片辐照可以包括控制基板旋转速率、源扫描速率、基板扫描速率、源功率设置、从源到基板的距离、源孔设置、基板上的整片辐照的入射角和源焦点位置中的至少一个以实现所选的整片曝光剂量分布。