自参考干涉仪、对准系统以及光刻设备

摘要

本发明公开了一种自参考干涉仪、对准系统以及光刻设备。该自参考干涉仪包括：具有相同起点和相同终点的第一光线传播路径和第二光线传播路径；沿第一光线传播路径方向依次设置有第一偏振分光棱镜和第一辅助棱镜；第一偏振分光棱镜的分光面与第一辅助棱镜的入光面平行设置；在第一光线传播路径的起点处设置有第二偏振分光棱镜和第二辅助棱镜；第二偏振分光棱镜的分光面与第二辅助棱镜的入光面平行设置；在第一光线传播路径的终点处设置有第三偏振分光棱镜；在第一光线传播路径和/或第二光线传播路径上设置有光程补偿单元。与现有的自参考干涉仪相比，本发明实施例提供的自参考干涉仪制作难度低，装调难度低。