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具有垂直结构的SnSe2/MoSe2新型异质结的制备方法及其场效应性能改性方法

摘要

本发明公开了一种具有垂直结构的SnSe2/MoSe2新型异质结的制备方法及其场效应性能改性方法,该制备方法采用机械剥离法结合旋转转移法的湿化学合成技术手段,通过调整旋转转移法技术手段的具体实施条件,制得一种基于二维过渡金属硫族化合物Se的垂直结构范德瓦尔斯异质半导体材料,该方法较为简单安全,适用于制备一系列二维过渡金属硫族化物(TMDs)的垂直结构异质结;通过将制备的垂直结构SnSe2/MoSe2范德瓦尔斯异质结进行退火改性处理,选择最优的提升异质结器件的场效应性能的退火改性温度及时间参数,本发明提供的异质结的改性方法,为范德瓦尔斯异质结更深入的应用于新一代光电子器件领域指明了方向。

著录项

  • 公开/公告号CN107424911B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-07-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 郑州轻工业学院;

    申请/专利号CN201710276280.2

  • 申请日2017-04-25

  • 分类号H01L21/02(20060101);H01L21/324(20060101);

  • 代理机构41125 郑州优盾知识产权代理有限公司;

  • 代理人张绍琳;张志军

  • 地址 450002 河南省郑州市金水区东风路5号

  • 入库时间 2022-08-23 11:07:12

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-31

    授权

    授权

  • 2017-12-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/02 申请日:20170425

    实质审查的生效

  • 2017-12-01

    公开

    公开

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