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版图重复单元光学邻近效应修正一致性检查方法

摘要

本发明提供一种版图重复单元光学邻近效应修正一致性检查方法,先建立包含有所有所述基准图形对应的原始设计层和所述原始设计层被光学邻近效应修正的图层的图形库,然后将所述图形库中所有所述基准图形对应的原始设计层与版图的原始设计的每一区域完全匹配成功的该基准图形对应的所述原始设计层被光学邻近效应修正的图层,与所述图形库中所有所述基准图形对应的所述原始设计层被光学邻近效应修正的图层作异或运算,得到差异以及对应的差异值,对上述差异中大于可接受差异值的进行归类,减少差异种类,这样就可以将数以千万级的差异归纳为几种或者数十种差异,大大提升了版图设计修正工作在重复区域修正一致性检查工作准确性与效率。

著录项

  • 公开/公告号CN106980719B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-07-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华力微电子有限公司;

    申请/专利号CN201710170707.0

  • 发明设计人 朱忠华;阚欢;魏芳;朱骏;张旭升;

    申请日2017-03-21

  • 分类号G06F30/398(20200101);

  • 代理机构31237 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人智云

  • 地址 201203 上海市浦东新区张江开发区高斯路568号

  • 入库时间 2022-08-23 11:07:11

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-31

    授权

    授权

  • 2017-08-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06F17/50 申请日:20170321

    实质审查的生效

  • 2017-07-25

    公开

    公开

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