法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-07-31
授权
授权
2017-08-18
实质审查的生效 IPC(主分类):G06F17/50 申请日:20170321
实质审查的生效
2017-07-25
公开
公开
机译: 合理的IC掩膜版图的光学工艺修正,这是由于修正的重复使用
机译: 合理的IC掩膜版图的光学工艺修正,这是由于修正的重复使用
机译: 光学邻近效应校正方法,包括应用仿真模型来校正结构单元上的光学邻近效应,并将具有结构单元的样本存储起来,以便将样本传输到基板上