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公开/公告号CN106462059B
专利类型发明专利
公开/公告日2020-07-28
原文格式PDF
申请/专利权人 三菱瓦斯化学株式会社;
申请/专利号CN201580024204.1
申请日2015-05-08
分类号G03F7/004(20060101);G03F7/038(20060101);G03F7/039(20060101);H01L21/027(20060101);
代理机构11277 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人刘新宇;李茂家
地址 日本东京都
入库时间 2022-08-23 11:06:35
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-07-28
授权
授权
2017-03-29
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/004 申请日:20150508
实质审查的生效
2017-02-22
公开
公开
机译: 衰减射线敏感或辐射敏感的树脂组合物,抗蚀膜,图案形成方法,电子设备的制造方法,抗蚀膜制成的掩模毛坯,抗蚀膜制成的掩模毛坯的图案形成方法
机译: 有源光敏感或辐射敏感树脂组合物,抗蚀膜,图案形成方法,制造电子设备的方法,具有抗蚀膜的面膜毛坯以及具有抗蚀膜的面膜的图案形成方法
机译: 抗蚀底层膜材料,图案形成方法,抗蚀底层膜形成方法以及抗蚀底层膜材料的化合物