法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-02-09
专利权的转移 IPC(主分类):B24B 1/00 变更前: 变更后: 登记生效日:20101229 申请日:20030128
专利申请权、专利权的转移
2011-02-09
专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):B24B 1/00 变更前: 变更后: 申请日:20030128
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
2008-04-02
授权
授权
2005-11-23
实质审查的生效
实质审查的生效
2005-09-28
公开
公开
机译: 结合使用基于水和二氧化碳的低温清洗技术对半导体晶圆表面进行CMP后清洗
机译: 结合水和低温清洗技术对半导体晶片表面进行CMP后清洗
机译: 结合水和低温清洗技术对半导体晶片表面进行CMP后清洗