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针对先进元件的晶圆上粒子性能的化学相容性涂层材料

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摘要

本发明涉及针对先进元件的晶圆上粒子性能的化学相容性涂层材料。为了针对一种用于半导体处理腔室的制品制造涂层，该制品包括Al、Al

1. 针对先进元件的晶圆上粒子性能的化学相容性涂层材料 [P] . 中国专利： CN107516645B . 2020.06.23
2. 针对先进元件的晶圆上粒子性能的化学相容性涂层材料 [P] . 中国专利： CN107516645A . 2017-12-26
3. CHEMISTRY COMPATIBLE COATING MATERIAL FOR ADVANCED DEVICE ON-WAFER PARTICLE PERFORMANCE [P] . 美国专利： US2018269039A1 . 2018-09-20

机译：化学相容性涂层材料，用于高级设备晶圆上颗粒性能
4. CHEMISTRY COMPATIBLE COATING MATERIAL FOR ADVANCED DEVICE ON-WAFER PARTICLE PERFORMANCE [P] . 美国专利： US2016211121A1 . 2016-07-21

机译：化学相容性涂层材料，用于高级设备晶圆上颗粒性能
5. CHEMISTRY COMPATIBLE COATING MATERIAL FOR ADVANCED DEVICE ON-WAFER PARTICLE PERFORMANCE [P] . 韩国专利： KR20150046073A . 2015-04-29

机译：化学相容性涂层材料，用于高级设备晶圆上颗粒性能