法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-06-12
授权
授权
2019-08-09
实质审查的生效 IPC(主分类):C30B30/00 申请日:20190517
实质审查的生效
2019-07-16
公开
公开
机译: 用于生产由硅制成的三维光子晶体的装置包括:生产具有内置缺陷的二维光子大光子大孔晶体,以及蚀刻层的微孔序列
机译: 三维光子晶体和三维光子晶体的制备方法
机译: 利用可光胶体悬浮液制造具有均匀胶体粒子排列结构的半球形光子晶体图案化和具有各种形状的光子晶体的制备方法