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高Q值且耐干扰的片上集成电感及其衬底隔离结构和芯片

摘要

本发明属于射频集成电路领域,公开了一种高Q值且耐干扰的片上集成电感及其衬底隔离结构和芯片,衬底隔离结构包括:设置在中间区域的电感衬底底盘,以及依次设置在所述电感衬底底盘外的DNW环和Psub环;DNW环与Psub环保持一定的间距,形成反偏的二极管DNP结构,增大了P衬底的负载电阻,对来自外部P衬底上的噪声起到隔离作用,提高了电感抗干扰的能力。本发明采用的电感衬底隔离结构不仅能够有效的抑制电感工作在高频状态下的涡流效应,还能提升电感本身的抗干扰能力;从而大大提高了集成电感的Q值。且本发明在现有普通工艺中就可以实现,不需要去使用电阻率高的特殊工艺,这样还大大降低了芯片制造的成本,提高了同行业的竞争力。

著录项

  • 公开/公告号CN108198800B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-06-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 建荣半导体(深圳)有限公司;

    申请/专利号CN201711464364.5

  • 发明设计人 黄志敏;

    申请日2017-12-28

  • 分类号

  • 代理机构深圳市华腾知识产权代理有限公司;

  • 代理人彭年才

  • 地址 518000 广东省深圳市宝安区新安街道海裕社区82区新湖路华美居商务中心A区652

  • 入库时间 2022-08-23 11:00:38

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-05

    授权

    授权

  • 2020-01-14

    专利申请权的转移 IPC(主分类):H01L23/522 登记生效日:20191226 变更前: 变更后: 申请日:20171228

    专利申请权、专利权的转移

  • 2018-07-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L23/522 申请日:20171228

    实质审查的生效

  • 2018-06-22

    公开

    公开

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