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一种锗硅量子阱电致折射率调制器和集成光电子器件

摘要

本发明公开了一种锗硅量子阱电致折射率调制器和集成光电子器件,包括:P型硅衬底、P型锗硅合金缓冲层、本征锗硅合金下隔离层、本征锗硅合金耦合量子阱层、本征锗硅合金上隔离层、N型锗硅合金盖层,本征锗硅合金耦合量子阱层由多个非对称耦合量子阱组成,单个非对称耦合量子阱由两个不同宽度的量子阱、一个中间薄壁垒、两个侧边壁垒组成,相邻两个非对称耦合量子阱共用一个侧边壁垒区,两个侧边壁垒的锗硅合金组分配比相同,中间薄壁垒的Ge含量必须低于所述两个侧边壁垒。中间垒区Ge含量低的非对称耦合量子阱,势垒高度比两侧势垒区高,防止中间垒区两侧的量子阱在无外加电场时发生耦合,在加电场发生耦合时,对两个量子阱的耦合控制效果更好。

著录项

  • 公开/公告号CN109343237B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-05-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华中科技大学;

    申请/专利号CN201811529867.0

  • 发明设计人 孙军强;张意;

    申请日2018-12-14

  • 分类号

  • 代理机构华中科技大学专利中心;

  • 代理人李智

  • 地址 430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

  • 入库时间 2022-08-23 10:59:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-05-19

    授权

    授权

  • 2019-03-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02F1/015 申请日:20181214

    实质审查的生效

  • 2019-02-15

    公开

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