公开/公告号CN107389653B
专利类型发明专利
公开/公告日2020-05-19
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院半导体研究所;
申请/专利号CN201710546012.8
申请日2017-07-06
分类号G01N21/65(20060101);
代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;
代理人任岩
地址 100083 北京市海淀区清华东路甲35号
入库时间 2022-08-23 10:58:50
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-05-19
授权
授权
2017-12-22
实质审查的生效 IPC(主分类):G01N21/65 申请日:20170706
实质审查的生效
2017-11-24
公开
公开
机译: 单层石墨烯的制造方法,生产单层石墨烯分散体的方法和单层石墨烯分散体
机译: 通过将可移动框架附着到施加在含石墨烯单层样品上的保护层上来转移石墨烯的方法
机译: 制造适用于可基于图案化多层石墨烯同时合成单层石墨烯的基于石墨烯的设备的图案化石墨烯的方法