,第二次四步相移中每一步的初始相位比第一次四步相移的多π/4;根据两次四步相移求得的相位值计算最终的相位值,若第一次四步相移时过曝而第二次未过曝,则;若第一次四步相移时未过曝而第二次过曝,则;若两次均过曝或均未过曝,则取两个相位的平均值。本发明能够有效地提高图像过曝区域的相位测量精度,减少计算开销。"/> 提高图像过曝区域相位测量精度的双四步相移法(CN201810173060.1)-中国专利【掌桥科研】
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提高图像过曝区域相位测量精度的双四步相移法

摘要

本发明提供了一种提高图像过曝区域相位测量精度的双四步相移法,分两次通过四步相移法求得正弦条纹图像上像素点(x,y)的相位值,第二次四步相移中每一步的初始相位比第一次四步相移的多π/4;根据两次四步相移求得的相位值计算最终的相位值,若第一次四步相移时过曝而第二次未过曝,则;若第一次四步相移时未过曝而第二次过曝,则;若两次均过曝或均未过曝,则取两个相位的平均值。本发明能够有效地提高图像过曝区域的相位测量精度,减少计算开销。

著录项

  • 公开/公告号CN108362226B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-05-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西北工业大学;

    申请/专利号CN201810173060.1

  • 申请日2018-03-02

  • 分类号G01B11/24(20060101);G01B11/25(20060101);

  • 代理机构61204 西北工业大学专利中心;

  • 代理人顾潮琪

  • 地址 710072 陕西省西安市友谊西路127号

  • 入库时间 2022-08-23 10:57:14

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-05-01

    授权

    授权

  • 2018-08-28

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01B11/24 申请日:20180302

    实质审查的生效

  • 2018-08-28

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01B 11/24 申请日:20180302

    实质审查的生效

  • 2018-08-03

    公开

    公开

  • 2018-08-03

    公开

    公开

  • 2018-08-03

    公开

    公开

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