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一种氧化镓器件隔离区的制备方法

摘要

本发明公开了一种氧化镓器件隔离区的制备方法,包括:在氧化镓材料上淀积掩膜层;去除所述掩膜层的预设部分区域;利用高温氧化技术,在所述氧化镓材料上与所述预设部分区域对应的位置制备所述隔离区,所述隔离区位于所述氧化镓器件的有源区之间;去除所述氧化镓材料上剩余的掩膜层。本发明通过高温氧化技术制备隔离区,避免了隔离区制备过程中对氧化镓器件造成的损伤,实现了氧化镓器件有源区之间的隔离。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-05-05

    著录事项变更 IPC(主分类):H01L21/02 变更前: 变更后: 申请日:20181130

    著录事项变更

  • 2020-04-28

    授权

    授权

  • 2020-04-28

    授权

    授权

  • 2019-04-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/02 申请日:20181130

    实质审查的生效

  • 2019-04-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/02 申请日:20181130

    实质审查的生效

  • 2019-04-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20181130

    实质审查的生效

  • 2019-04-05

    公开

    公开

  • 2019-04-05

    公开

    公开

  • 2019-04-05

    公开

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  • 2019-04-05

    公开

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