法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-04-10
授权
授权
2017-09-19
实质审查的生效 IPC(主分类):G06F19/00 申请日:20170405
实质审查的生效
2017-09-19
实质审查的生效 IPC(主分类):G06F 19/00 申请日:20170405
实质审查的生效
2017-08-25
公开
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2017-08-25
公开
公开
2017-08-25
公开
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机译: 形成低介电常数非晶态二氧化硅涂层的方法及采用该方法获得的低介电常数非晶态二氧化硅涂层的方法
机译: 形成低介电常数非晶态二氧化硅涂层的方法及采用该方法获得的低介电常数非晶态二氧化硅涂层的方法
机译: 低介电常数非晶质二氧化硅基涂层的形成方法及该方法获得的低介电常数非晶质二氧化硅基涂层的形成方法