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包括结终端延伸结构的超结半导体器件及制造方法

摘要

本发明涉及包括结终端扩展结构的超结半导体器件及制造方法。实施例涉及超结半导体器件,其包括在半导体主体(106)的第一表面(104)处并至少部分地围绕有源单元区域(108)的结终端区域(102)。结终端区域(102)的内部分(110)布置在结终端区域(102)的外部分(112)和有源单元区域(108)之间。电荷补偿器件结构包括沿着第一横向方向(x)交替地布置的第一导电类型的第一区(114)和第二导电类型的第二区(116)。第一表面区域(118)对应于第一区(114)到第一表面(104)上的投影,而第二表面区域(120)对应于第二区(116)到第一表面(104)上的投影。超结半导体器件还包括第一结终端扩展结构(122)和第二结终端扩展结构(124)中的至少一个。

著录项

  • 公开/公告号CN106409906B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-03-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 英飞凌科技奥地利有限公司;

    申请/专利号CN201610275891.0

  • 申请日2016-04-29

  • 分类号

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人申屠伟进

  • 地址 奥地利菲拉赫

  • 入库时间 2022-08-23 10:52:34

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-03-17

    授权

    授权

  • 2017-03-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/78 申请日:20160429

    实质审查的生效

  • 2017-03-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/78 申请日:20160429

    实质审查的生效

  • 2017-02-15

    公开

    公开

  • 2017-02-15

    公开

    公开

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