公开/公告号CN104950568B
专利类型发明专利
公开/公告日2020-02-07
原文格式PDF
申请/专利权人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;
申请/专利号CN201410114596.8
申请日2014-03-25
分类号G03F1/36(20120101);G03F7/20(20060101);
代理机构11227 北京集佳知识产权代理有限公司;
代理人骆苏华
地址 201203 上海市浦东新区张江路18号
入库时间 2022-08-23 10:49:40
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-02-07
授权
授权
2015-11-04
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F1/36 申请日:20140325
实质审查的生效
2015-11-04
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/36 申请日:20140325
实质审查的生效
2015-09-30
公开
公开
2015-09-30
公开
公开
机译: 利用光学邻近校正曝光图案的曝光方法,用于产生光学邻近校正曝光数据的设备和用于光学邻近校正曝光数据的曝光设备
机译: 利用光学邻近校正曝光图案的曝光方法,用于产生光学邻近校正曝光数据的设备和用于光学邻近校正曝光数据的曝光设备
机译: 使用光学邻近校正曝光图案的曝光方法,用于光学邻近校正曝光数据的生成装置以及用于光学邻近校正曝光数据的曝光装置