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光学邻近校正方法及双重图形曝光方法

摘要

一种光学邻近校正方法及双重图形曝光方法,其中光学邻近校正方法包括:提供目标图形,所述目标图形包括多个子目标图形,且子目标图形分为若干片段;对子目标图形进行模拟曝光,获取子目标图形各片段的光强参数;基于获取的子目标图形各片段的光强参数,获取子目标图形各片段中的标记片段;移除目标图形中具有标记片段的子目标图形,将目标图形分解为第一子图形和第二子图形,其中,第一子图形为具有标记片段的子目标图形的组合。本发明依据曝光能力,获取子目标图形各片段中的标记片段,减小目标图形与最终形成图形之间的区别,提高最终形成图形的精确性。

著录项

  • 公开/公告号CN104950568B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-02-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201410114596.8

  • 发明设计人 程仁强;王辉;

    申请日2014-03-25

  • 分类号G03F1/36(20120101);G03F7/20(20060101);

  • 代理机构11227 北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人骆苏华

  • 地址 201203 上海市浦东新区张江路18号

  • 入库时间 2022-08-23 10:49:40

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-02-07

    授权

    授权

  • 2015-11-04

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F1/36 申请日:20140325

    实质审查的生效

  • 2015-11-04

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/36 申请日:20140325

    实质审查的生效

  • 2015-09-30

    公开

    公开

  • 2015-09-30

    公开

    公开

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