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陈宝钦; 刘明; 任黎明;
中国电子学会;
电子束曝光; 电子抗蚀剂; 电子散射效应;
机译:电子束光刻中用于曝光估计和邻近效应校正的非矩形特征的表示
机译:通过电子束光刻技术对50 nm的波带片进行纳米加工,并对X射线成像进行局部邻近效应校正
机译:点扩展函数精度对低压电子束直接写入光刻中图形预测和邻近效应校正的影响
机译:高通量区块曝光电子束直接写入中的补充曝光法校正邻近效应
机译:使用线性编程技术实施电子束邻近效应校正,以制造非对称领结天线。
机译:用于金纳米阵列制造和在纳米技术中使用的高速电子束光刻
机译:硅纳米线器件制造中电子束灰度光刻的实现和邻近效应校正
机译:电子束光刻的邻近效应校正程序
机译:电子束曝光的邻近效应校正方法,半导体器件的曝光方法,制造方法和邻近效应校正模块
机译:光学邻近效应校正方法和装置,光学邻近效应验证方法和装置,曝光掩模的制造方法,进一步的光学邻近效应校正程序和光学邻近效应验证程序
机译:光学邻近效应校正方法和装置,光学邻近效应验证方法和装置,制造曝光掩模的方法以及光学邻近效应校正程序和光学邻近效应验证程序
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