法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-01-14
授权
授权
2018-11-06
实质审查的生效 IPC(主分类):G02B5/18 申请日:20180507
实质审查的生效
2018-11-06
实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 5/18 申请日:20180507
实质审查的生效
2018-10-12
公开
公开
2018-10-12
公开
公开
2018-10-12
公开
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机译: 适用于形成图案的重复性曝光的投影曝光设备,一种使用其的投影曝光方法,一种制造曝光成员的方法以及一种包括曝光模式列的半导体装置
机译: 使用快门元件进行曝光的装置和一种用于曝光部分全息膜的曝光方法,一种用于制造薄膜晶体管的方法,一种显示装置以及一种电子装置
机译: 曝光设备,一种曝光方法以及一种利用能够在平台加速时测量基板高度的能力来制造设备的方法