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氧化锌单晶的通气坩埚下降生长方法

摘要

本发明涉及第三代半导体材料ZnO晶体的通气坩埚下降生长方法,属于单晶生长领域。特征是:将初始原料ZnO(4N)与助熔剂按一定的摩尔比称量、配料并均匀混合,装入贵金属坩埚内;将坩埚置于事先设计好的具有通气或通水系统的保温陶瓷管内,在下降炉中加热熔化原料;待原料完全熔化后,通入气体或水并开始以小于2mm/h速率下降坩埚,待全部熔体凝固并冷却到室温后,可获得所需的ZnO单晶。本方法的特点在于,坩埚底部通入气体使坩埚局部过冷并快速形成晶核,从而能够生长出大尺寸ZnO晶体。本方法工艺设备简单,操作方便,可一炉生长多个晶体,有利于实现晶体生长的工业化。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-06-13

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C30B 11/00 授权公告日:20080109 终止日期:20110324 申请日:20060324

    专利权的终止

  • 2008-01-09

    授权

    授权

  • 2006-12-06

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-10-11

    公开

    公开

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