首页> 中国专利> 一种坩埚下降法生长氧化镓体单晶的生长装置及其方法

一种坩埚下降法生长氧化镓体单晶的生长装置及其方法

摘要

本发明涉及一种坩埚下降法生长氧化镓体单晶的生长装置及其方法,装置包括单晶炉、铱金坩埚、热场部件、气氛控制单元,热场部件围绕铱金坩埚设置,由独立加热的上温区和下温区组成。本装置采用上、下双温区独立加热,上温区为高温区具有较小的轴向温度梯度,能够有效控制由于熔体温度过高而导致氧化镓原料分解挥发的加剧;下温区为低温区,能够对晶体进行原位退火减少晶体内部应力,上、下温区加热功率相互匹配调节能够更灵活地调控热场的轴向、径向温度梯度。与现有技术相比,本发明能够有效抑制高温晶体生长过程中氧化镓原料的分解挥发,提高晶体的结晶完整性,延长坩埚使用寿命。

著录项

  • 公开/公告号CN113445125A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-09-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 同济大学;

    申请/专利号CN202110796683.6

  • 申请日2021-07-14

  • 分类号C30B29/16(20060101);C30B11/00(20060101);

  • 代理机构31225 上海科盛知识产权代理有限公司;

  • 代理人顾艳哲

  • 地址 200092 上海市杨浦区四平路1239号

  • 入库时间 2023-06-19 12:45:17

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号