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羟肟酸型蒙脱土离子印迹材料及其制备方法和应用

摘要

本发明中公开了一种羟肟酸型蒙脱土离子印迹材料及其制备方法和应用,该羟肟酸型蒙脱土离子印迹材料是以蒙脱土为载体,通过表面离子印迹技术和电子转移活化原子转移自由基聚合技术在蒙脱土表面嫁接羟肟酸基团,以金属离子为模板,乙二醇二缩水甘油醚为交联剂,对蒙脱土表面的羟肟酸基团进行金属离子印迹,洗脱模板后制备得到。本发明的羟肟酸型蒙脱土离子印迹材料具有选择性吸附量大、吸附效率高、性质稳定、无污染、重复利用性好等优点,其制备方法具有步骤简单、操作方便、生产效率高等优点,将其用于处理重金属废水时具有操作简单、处理成本低,对重金属吸附效果好等优点。

著录项

  • 公开/公告号CN107629178B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-12-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 湖南大学;

    申请/专利号CN201710839903.2

  • 申请日2017-09-18

  • 分类号

  • 代理机构湖南兆弘专利事务所(普通合伙);

  • 代理人何文红

  • 地址 410082 湖南省长沙市河西岳麓山湖南大学环境科学与工程学院

  • 入库时间 2022-08-23 10:45:33

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-12-06

    授权

    授权

  • 2018-02-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):C08F292/00 申请日:20170918

    实质审查的生效

  • 2018-02-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):C08F 292/00 申请日:20170918

    实质审查的生效

  • 2018-01-26

    公开

    公开

  • 2018-01-26

    公开

    公开

  • 2018-01-26

    公开

    公开

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