公开/公告号CN105574293B
专利类型发明专利
公开/公告日2019-12-03
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院微电子研究所;
申请/专利号CN201610068977.6
申请日2016-02-01
分类号G06F17/50(20060101);G03F1/22(20120101);
代理机构11370 北京汉昊知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人朱海波
地址 100029 北京市朝阳区北土城西路3号
入库时间 2022-08-23 10:44:08
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-12-03
授权
授权
2016-06-08
实质审查的生效 IPC(主分类):G06F17/50 申请日:20160201
实质审查的生效
2016-06-08
实质审查的生效 IPC(主分类):G06F 17/50 申请日:20160201
实质审查的生效
2016-05-11
公开
公开
2016-05-11
公开
公开
机译: 用于EUV光刻的EUV EUV掩模EUV光刻系统和用于优化面具成像的方法
机译: 用于EUV光刻的掩模,EUV光刻系统和用于优化掩模成像的方法
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