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高分子型六芳基二咪唑光引发剂及其制备方法

摘要

本发明公开了下式所示的一类高分子型六芳基二咪唑光引发剂及其制备方法。这类光引发剂是以4-氟苯偶酰为原料,经取代反应、环化反应和氧化偶合反应得到高分子型六芳基二咪唑光引发剂。此类光引发剂含有供电子的叔胺侧基,有利于改善六芳基二咪唑类光引发剂的紫外-可见光吸收性能和光引发活性,同时其高分子结构有利于降低光固化后残留的六芳基二咪唑向材料表面的迁移,在光致抗蚀剂、印刷线路版等微电子领域有着广泛的应用前景。式中,n=5~200,R1、R2、R3、R4和R5分别独立选自氢、卤素、硝基、氰基、含1~3个碳原子的烷基或者含1~3个碳原子的烷氧基,X为二元叔胺基团。

著录项

  • 公开/公告号CN100369955C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2008-02-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海交通大学;

    申请/专利号CN200610025666.8

  • 发明设计人 史永涛;姜学松;印杰;

    申请日2006-04-13

  • 分类号C08G73/00(20060101);C08F2/50(20060101);G03F7/028(20060101);

  • 代理机构31201 上海交达专利事务所;

  • 代理人罗荫培

  • 地址 200240 上海市闵行区东川路800号

  • 入库时间 2022-08-23 09:00:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-06-27

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/028 授权公告日:20080220 终止日期:20110413 申请日:20060413

    专利权的终止

  • 2008-02-20

    授权

    授权

  • 2006-12-13

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-10-18

    公开

    公开

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