首页> 中国专利> 制备光刻胶-石墨烯量子点的发光复合体系的方法

制备光刻胶-石墨烯量子点的发光复合体系的方法

摘要

本发明提供了一种制备光刻胶‑石墨烯量子点的发光复合体系的方法,其包括:1)提供包含石墨烯量子点和光刻胶的混合物;2)采用掩模图形版对由步骤1)得到的混合物进行曝光;和3)用显影液处理由步骤2)得到的曝光的材料以除去未交联部分,得到光刻胶‑石墨烯量子点的发光复合体系。本发明还涉及由该方法得到的光刻胶‑石墨烯量子点的发光复合体系及其用途。

著录项

  • 公开/公告号CN107446577B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-10-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京师范大学;

    申请/专利号CN201710594613.6

  • 发明设计人 邹应全;薛兵;

    申请日2017-07-20

  • 分类号C09K11/65(20060101);C09K11/02(20060101);G03F7/004(20060101);G03F7/027(20060101);

  • 代理机构11247 北京市中咨律师事务所;

  • 代理人李小梅;刘金辉

  • 地址 100875 北京市海淀区新街口外大街19号

  • 入库时间 2022-08-23 10:41:43

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-10-25

    授权

    授权

  • 2018-01-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):C09K11/65 申请日:20170720

    实质审查的生效

  • 2018-01-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):C09K 11/65 申请日:20170720

    实质审查的生效

  • 2017-12-08

    公开

    公开

  • 2017-12-08

    公开

    公开

  • 2017-12-08

    公开

    公开

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