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一种基于测地距离的三维类摆线抛光路径生成方法

摘要

本发明公开了一种基于测地距离的三维类摆线抛光路径生成方法,包括步骤:提取工件的三维曲面信息,确定抛光路径起点;由起点位置和曲面的曲率变化情况,调整等距线与起点的测地距离,自适应生成均匀覆盖曲面的等距线;调整各层等距线的间距及三维类摆线路径的半径,使相邻抛光路径间的材料去除深度叠加均匀;沿等距线生成满足半径要求的测地摆线,并自适应调节测地摆线路径的步距值;生成沿所有等距线的摆线抛光路径,后置处理获得实际加工的三维类摆线抛光路径。本发明利用测地距离在网格上的优势,可避免使用投影或展平等方法规划曲面轨迹时的变形。同时,利用摆线轨迹的多方向性,能有效提高三维曲面抛光的均匀性,从而提升工件表面质量。

著录项

  • 公开/公告号CN108000246B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-10-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华南理工大学;

    申请/专利号CN201711243471.5

  • 发明设计人 王清辉;廖昭洋;杨烈;

    申请日2017-11-30

  • 分类号

  • 代理机构广州粤高专利商标代理有限公司;

  • 代理人何淑珍

  • 地址 511458 广东省广州市南沙区环市大道南路25号华工大广州产研院

  • 入库时间 2022-08-23 10:41:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-10-18

    授权

    授权

  • 2018-06-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):B24B1/00 申请日:20171130

    实质审查的生效

  • 2018-06-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 1/00 申请日:20171130

    实质审查的生效

  • 2018-05-08

    公开

    公开

  • 2018-05-08

    公开

    公开

  • 2018-05-08

    公开

    公开

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