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一种沿行切路径进给的三维类摆线抛光轨迹生成方法

摘要

本发明公开了一种沿行切路径进给的三维类摆线抛光轨迹生成方法,包括步骤:S1、获取并建立三维曲面与二维参数区域之间的空间映射关系;S2、在平面参数区域内规划行切进给路径;S3、计算行切进给路径位置在参数域两个方向上的映射拉伸系数,自适应地调节沿行切路径进给的二维摆线的步距值与半径值;S4、根据自适应的二维摆线的步距与半径,以行切进给路径为引导线,通过不断迭代生成二维摆线轨迹以覆盖整个平面参数区域;S5、将所述二维摆线轨迹逆映射回三维曲面,获得三维类摆线抛光轨迹。本发明的抛光轨迹生成方法能够利用摆线轨迹的多方向性以避免产生周期性的抛光痕迹,可提高自由曲面抛光的均匀性,从而提升加工工件的表面质量。

著录项

  • 公开/公告号CN107369127B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-07-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华南理工大学;

    申请/专利号CN201710434687.3

  • 发明设计人 李静蓉;许晨旸;王清辉;廖昭洋;

    申请日2017-06-09

  • 分类号G06T3/00(20060101);G06T15/00(20110101);

  • 代理机构44102 广州粤高专利商标代理有限公司;

  • 代理人何淑珍

  • 地址 510640 广东省广州市天河区五山路381号

  • 入库时间 2022-08-23 11:06:42

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-28

    授权

    授权

  • 2017-12-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06T3/00 申请日:20170609

    实质审查的生效

  • 2017-11-21

    公开

    公开

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