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消影玻璃中折射率匹配层的连续沉积方法

摘要

一种消影玻璃中折射率匹配层的连续沉积方法,包括(a)使用第一工作气体对靶材进行溅射,以使得所述靶材材料的原子沉积在基片上;并且(b)使用第二工作气体对所述靶材进行溅射,以使得所述靶材材料的原子沉积在所述基片上。本发明采用磁控溅射法在不换靶的情况下,仅通过改变通入的气体就可以实现折射率匹配层的制备,结构简单,制备方便,成本低,可以有效消除刻蚀阴影,有利于企业大规模生产。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-09-10

    授权

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  • 2017-07-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/35 申请日:20140811

    实质审查的生效

  • 2017-07-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20140811

    实质审查的生效

  • 2014-10-29

    公开

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  • 2014-10-29

    公开

    公开

  • 2014-10-29

    公开

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