首页> 中国专利> 高频用磁性薄膜、复合磁性薄膜和使用它们的磁性元件

高频用磁性薄膜、复合磁性薄膜和使用它们的磁性元件

摘要

本发明提供一种高频用磁性薄膜,其中,含有由T-L组合物构成的第1层,其中T是Fe或FeCo、L是C、B和N之中的1种、2种或以上、和在上述第1层的任意的面上被配置的由Co系非晶质合金构成的第2层。本发明的高频用磁性薄膜,通过层叠、优选交替地层叠了多个第1层和多个第2层的多层膜结构构成为好。本发明的高频用磁性薄膜,能够得到在1GHz下的复数磁导率的实数部(μ’)为400或以上、并且性能指数Q(Q=μ’/μ”)为4或以上、饱和磁化为14kG(1.4T)或以上的特性。

著录项

  • 公开/公告号CN1333413C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2007-08-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TDK株式会社;

    申请/专利号CN03802283.4

  • 发明设计人 崔京九;村濑琢;山崎阳太郎;

    申请日2003-01-10

  • 分类号H01F10/16(20060101);

  • 代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人陈建全

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 08:59:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-12-27

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01F 10/16 授权公告日:20070822 终止日期:20190110 申请日:20030110

    专利权的终止

  • 2007-08-22

    授权

    授权

  • 2007-08-22

    授权

    授权

  • 2005-07-13

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-07-13

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-05-11

    公开

    公开

  • 2005-05-11

    公开

    公开

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